废液端朝下

数据管理器系统

报告选中数据人间，report   

数据备份处理

数据管理器

1.选择一条数据，点击存档按钮，所有数据备份，存储路径进行定义

点击存档

备份成功后，将数据删除，delete按钮，PACK按钮，释放空间

2.压缩文件重新导入：恢复，找到文件夹，找到需要恢复的文件，选中打开，可以恢复全部数据/部分，恢复按钮

数据处理

查看以前数据

在线和离线

找到文件，打开文件夹，选择文件OK，右键，选择载入方法

ctrl多选

打印校准曲线：激活校准曲线窗口，左上角打印

或者鼠标右键-编辑校准-除了校准曲线，相关系数，斜率，截距，每一个点的设置浓度，计算浓度

方法编辑流程

在线和离线

分析-方法-新建方法-OK-选择元素及波长鼠标右击选择波长第一推荐

设置-延迟时间40s  测量次数2次

等离子体12-0.3-1300-

点击检查方法

点击保存-命名-OK

十字交叉雾化器

尾端废液管

金属螺母旋松，雾化器端盖取下

密封圈不清洗

O圈不洗

雾化器拆卸：先氩气管，后样品管

宝石喷嘴上的密封圈

宝石喷嘴30s超声

雾室和盖子10%硝酸浸泡清洗，用超纯水冲洗干净

组装：宝石喷嘴加密封圈安装

先装氩气的红宝石喷嘴，后样品的白色喷嘴

排废液底端和进样管端在同一方向同一平面

拧紧固定螺母

安装废液管组件

中心管：2个密封圈不洗，

矩管两个密封圈不清洗

30%硝酸隔夜浸泡，倒置

白色上方，黑色的下方密封圈

豁口黑线同一方向

Cs采用894.347nm进行检测。核辐射的东西里面Cs就多。 ICP测Cl-858.894,三元锂电池材料测Cl-粒子。

C的测定，193.030 247.856nm    

双向观测。主要元素垂直观测，微量元素轴向观测。

这个课比较重要， 酸度1-5%，溶解固态物小于2%。 

盐酸和硝酸一起用。氯化银沉淀堵塞雾化器。高氯酸会导致镉的挥发。氢氟酸做硅样品的分解。使用聚四氟器皿。王水比较常见。

硫酸与硝酸一起使用，聚四氟的熔点372度不够260度变形，使用硫酸时。注意硫酸沉淀等。一般用盐酸和硝酸。

大于80%的基本元素采用测杂质求余量的方法。

哇哈哈可以作为纯水使用，标准溶液2-3周以后需从新配置。

常规有机物推荐1.2mm氧化铝中心管，挥发性强的用0.8mm的中心管。有机样品适当增加射频发生器的功率。

波长小于190nm，需要对光路进行吹扫。注意实验室温度偏差不能太大。

光学初始化-动态波长校正，氖灯步数补偿，60-90位置，4min左右初始化完成。

实验室温度过低，250步范围内找不到谱峰，切换狭缝扫描还找不到峰，报错，初始化失败。 光学初始化的步数不要太大。，开机后多次初始化步数会叠加。

积分时间怎么看短不短。 浓度是否太高，一般建议为检出限的100倍左右。

同心雾化器虽然灵敏度高，但是容易坏堵塞。做过有机样品要用乙醇和丙酮进行清洗。如果堵塞千万不能超声，也不能捅容易损坏，

宝石喷嘴5%硝酸超声2min。密封圈要取下来。进样管垂直向下。 矩管不要进行超声，有积碳，马弗炉600℃烧半小时。 清洗时候带手套操作。有轻微老化的密封圈涂凡士林提高密封性。

酒精定期擦洗平板，轴向和径向观测窗，切割气喷嘴。

过滤器用完取出滤芯自然晾干，下次开机前再装上，半年更换一次滤芯。

滤棉定期拿出来清洁，每半年对循环水机进行cedilla冲洗并更换冷却液(最多半年左右)。

观测位置的校准，矩管组件进行了才写更换要校准。要用1mg/L Mn对轴向和径向分别进行校准。

只需要对radial axial进行校准。检测器校准没有讲怎么校准。

灵敏度检测，每天都要查一下。1mg/L Mn。如果测试的时水溶液样品，要用2%硝酸冲洗系统5min,然后去离子水冲洗2min. 高纯氩气，99.996%，输出压力为550-825KPa; ,吹扫气体必须高纯气体99.999%。输出压力275-825KPa.切割气用空气，550-825Kpa.冷却循环水的水位，水压310-550Kpa. 确保排风系统已经打开，风速9-11米/秒。每天做完样后冲洗雾化器。

透明的：水溶液，黄色是有机溶液的；

软件不受控制时，可以红色按钮熄火，再次坎级需要重新按下次按钮，并在, plasma advanced rest emergency plasma off  reset重置。

干扰，部分重叠，完全重叠。多普线拟合MSF。样品之间的清洗时间组偶长，确保系统没有残留。再处理数据。

部分重叠相关干扰元素要全部单标测定才能建立MSF. Examine 首个下拉选MSF，定义干扰待测。分析界面MSF保存。回到原来测定的方法，P选择MSF矫正，光谱矫正选择保存的MSF.

谱线全屋重叠(用IEC模型)Zn对W的干扰。单标。

点击分析：点击IEC,保存，模型下面点击更新方法。

备份数据以后再删除，然后pack释放空间。

data manager里面才能设置报告模板。

只要该信息，就的从新保存，从新再处理。

做测试时多选择几条波长，因为经常有光谱干扰。

打开校准看一下线性拟合度，Na的异常净强度很大。

谱图处理，results下examine,点击data,选择要处理的数据，不多全选，next完成，背景是平的，背景点不需要调节，有小峰的地方，调节背景点到没有峰的位置，往外拉，然后右击更新方法参数并保存。所有元素调节好后再打开再处理，查看结果如何。如果找不到合适的位置放背景点就去掉这个背景点，(调节一个波长保存一次方法参数)

这一课主要讲的背景点，积分像素调节。

做低于190nm波长的元素时，先氮气吹扫一下。减少干扰积分像素点缩短积分宽度。样品可能存在未知干扰。 峰偏移，查看干扰因素，拉姆达ID(根据样品特性判断干扰波长元素)，用不了也没办法使用，主体有铜合金。 干扰导致峰偏移峰变形，多普线拟合扣除。都调节好以后再处理数据。反复调节反复再处理。 背景点就是水平面点

clear results 重新显示。 选择数据时，从序列号开始选择，才能选择上。

r如果只想要样品结果信息，打开方法options, 把打勾的去掉。

dataviewer查看数据 export all导出excel数据。

校准曲线的编辑，更换拟合方式，校准页面右击进入。逐个改变校准曲线提高数据准确性，后需要重新再处理并结果导出。

报告的整理：删除测试结果不理想的数据，再处理界面无法删除，需要新建数据文件再删除，就是保存再处理好的结果 。

待测液与标准液体差异大用标准加入法。

样品机体加上标准液配置标准液。校准曲线做完，样品浓度就算出来了。斜率截距的绝对值。

待测样品要足够多，标样体积要足够小，不影响待测样品的环境改变。8ml+0.1ml定容，+0.2ml定容等等。 选择第三个方法，只需要校准一个样品，后面基本相同的不用校准直接测。 分析特性：标准空白，样品+标准1，2，3，再测样品1.2.3.   多个样品基体差别大，都要每个样品配置标准曲线。